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石英玻璃在半導體工業(yè)設備上，使用溫度經(jīng)常在1000℃到1300℃之高溫狀態(tài)，在此種狀態(tài)下由于附著(zhù)不純物導致失透現象發(fā)生，失透之部分為石英之晶質(zhì)化，晶質(zhì)化之變態(tài)點(diǎn)為275℃，當石英玻璃自高溫降自此變態(tài)溫度時(shí)，表面失透之晶質(zhì)化部分與石英玻璃本身高溫之α相與低溫之β相間膨脹系數不同在急速冷卻下產(chǎn)生不透明之剝離狀更嚴重時(shí)會(huì )造成破裂現象產(chǎn)生。
為使石英制品能使用更久，就必須注意防止造成石英失透產(chǎn)生的原因，而造成失透的污染源就屬堿金屬、堿土金屬、汗水、口水、油污、塵?！鹊?。
且0.1mg/cm2l}k就會(huì )造成數十倍或數百倍的失透量。因此，防止這些污染源附著(zhù)在石英表面上除了不直接用空手去拿石英外，使用在高溫作業(yè)之前必先做清洗之工作以確保石英表面之潔凈度。一般石英之洗凈須要一些程序首先用純水先沖洗表面，再置入酸洗槽內浸泡一些時(shí)間，取出后再用純水沖洗后晾干。
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